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经调查发现,在截至2015年3月的财年内,软银集团旗下运营商子公司“软银公司”(SoftBank Corp)将约125万美元的应纳税收入转成研发开支,从而降低了应纳税收入。

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双方合作的成果就是将推出数值孔径NA不低于0.5的EUV光刻系统,不过这款产品离问世还早,至少要到2024年才能量产。当然,新一代光刻机的好处也很多,目前全球先进的半导体特征尺寸约为35nm,第一代EUV光刻机数值孔径是0.33,特征尺寸缩小到了13nm,而0.5倍数值孔径的EUV将把印刷尺寸进一步缩小到8nm。